沿革

当社は1980年の創業以来、受光および発光のダイオードの研究開発に特化して、前工程から後工程まで手がける光半導体デバイスの専門メーカーとして歩んで参りました。
創業時には、液相成長の1種である新徐冷法に基づくGaAlAs系の光半導体製造装置の開発に成功し、今日の高輝度LEDの基礎を築いた半導体ベンチャーの草分け企業の1社として知られております。

1980年代
  • 1980年4月

    京都セミコンダクター株式会社を京都府城陽市にて設立

  • 1980年5月

    工場を京都市伏見区淀際目町に開設

  • 1980年12月

    東京営業所を東京都世田谷区に開設

  • 1989年3月

    北海道工場を北海道空知郡上砂川町に開設

1990年代
  • 1991年6月

    100%出資子会社北海道セミコンダクター株式会社を設立

  • 1991年12月

    北海道セミコンダクター株式会社の工場を開設

  • 1992年9月

    恵庭開発センターを北海道恵庭市に開設

  • 1999年6月

    北海道セミコンダクター株式会社と50:50の出資比率でノースセミコンダクター株式会社を設立

2000年代
  • 2000年12月

    本社を京都市伏見区恵美須町に移転

  • 2001年2月

    フォトダイオード等フォトデバイスが京都中小企業優秀技術賞を受賞

  • 2001年4月

    北海道セミコンダクター株式会社がノースセミコンダクター株式会社を吸収合併

  • 2001年10月

    恵庭事業所がISO9001:1994を取得

  • 2003年3月

    北海道セミコンダクター株式会社を吸収合併

  • 2003年4月

    社名を京セミ株式会社に変更

  • 2004年6月

    恵庭事業所、上砂川事業所がISO9001:2000の認証を取得

  • 2004年8月

    恵庭事業所、上砂川事業所がISO14001:1996の認証を取得

  • 2005年3月

    東京営業所を東京都新宿区に移転

  • 2005年10月

    米国カリフォルニア州に100%出資の子会社Kyosemi Opto America Corporationを設立

2010年代
  • 2016年5月

    アイ・シグマ事業支援ファンド2号が京セミホールディング株式会社を設立

  • 2016年7月

    京セミホールディング株式会社が京セミ株式会社の株式を取得し、子会社化

  • 2016年10月

    京セミホールディング株式会社が京セミ株式会社の株式を100%取得

  • 2017年4月

    京セミホールディング株式会社が京セミ株式会社を吸収合併後、京セミ株式会社に社名変更

  • 2017年11月

    本社を京都市伏見区西大手町(現住所)に移転

  • 2018年10月

    社名を株式会社 京都セミコンダクターに変更